非晶氮化硅薄膜退火前后微结构的XPS研究
| Data(s) |
2000
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| Resumo |
于2010-11-23批量导入 zhangdi于2010-11-23 13:08:40导入数据到SEMI-IR的IR Made available in DSpace on 2010-11-23T05:08:40Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5132.pdf: 209923 bytes, checksum: 98f3d24c8d85c24a1b4cb98f30e94b80 (MD5) Previous issue date: 2000 国家青年科学基金 清华大学微电子学研究所;中科院半导体所 国家青年科学基金 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
岳瑞峰;王燕;廖显伯;王永谦;刁宏伟;孔光临.非晶氮化硅薄膜退火前后微结构的XPS研究,真空科学与技术学报,2000,20(6):425 |
| Palavras-Chave | #半导体材料 |
| Tipo |
期刊论文 |
