砷化镓晶片表面损伤层分析


Autoria(s): 郑红军; 卜俊鹏; 曹福年; 白玉柯; 吴让元; 惠峰; 何宏家
Data(s)

1999

Resumo

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中科院半导体所

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18165

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103720

Idioma(s)

中文

Fonte

郑红军;卜俊鹏;曹福年;白玉柯;吴让元;惠峰;何宏家.砷化镓晶片表面损伤层分析,稀有金属,1999,23(4):241

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文