HF/CrO_3溶液对AlGaAs的选择性湿法刻蚀应用于楔型结构的制备


Autoria(s): 黄辉; 黄永清; 任晓敏; 高俊华; 罗丽萍; 马骁宇
Data(s)

2002

Resumo

利用动态掩膜腐蚀技术,研究了HF/CrO_3腐蚀液对各种不同组分的Al_xGa_(1-x)As (x = 0.3, 0.5, 0.65)的腐蚀速率及腐蚀表面形貌。随着HF(48wt%)/CrO_3(33wt%)的体积比由0.01变化到0.138,相应的腐蚀液对Al_(0.8)Ga_(0.2)As/Al_(0.3)Ga_(0.7)As的选择性由179降到8.6;通过调节腐蚀液的选择性,在Al_(0.3)Ga_(0.7)As外延层上制备出了倾角从0.32°到6.61°的各种斜面。当HF(48wt%)/CrO_3(33wt%)的体积比为0.028时,Al组分分别为0.3、0.5和0.65时,相应的腐蚀表面的均方根粗糙度为1.8、9.1和19.3nm。另外,还分析了腐蚀机理与腐蚀表面形貌之间的关系。

国家杰出青年基金(批准号:696251 1),国家自然基金(批准号:69976 7)资助项目

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18103

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103689

Idioma(s)

中文

Fonte

黄辉;黄永清;任晓敏;高俊华;罗丽萍;马骁宇.HF/CrO_3溶液对AlGaAs的选择性湿法刻蚀应用于楔型结构的制备,半导体学报,2002,23(2):208-212

Palavras-Chave #半导体器件
Tipo

期刊论文