半导体微腔中电偶极子的自发发射


Autoria(s): 刘文楷; 林世鸣; 曲延峰; 武术; 张存善
Data(s)

2002

Resumo

由于反射电场的影响,电偶极子在微腔中的自发发射速率不同于自由空间中的自发发射速率。本文采用镜像法计算了理想平面微腔、金属平面镜组成的半导体微腔和由分布布喇格反射镜(DBR)作为谐振腔的垂直发射激光器(VCSEL)中电偶极子的自发发射速率。计算结果表明

由于反射电场的影响,电偶极子在微腔中的自发发射速率不同于自由空间中的自发发射速率。本文采用镜像法计算了理想平面微腔、金属平面镜组成的半导体微腔和由分布布喇格反射镜(DBR)作为谐振腔的垂直发射激光器(VCSEL)中电偶极子的自发发射速率。计算结果表明

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国家自然科学基金资助项目(6989626 ;69937 1 )

中国科学院半导体研究所;中科院半导体所神经网络实验室;河北工业大学电气信息学院

国家自然科学基金资助项目(6989626 ;69937 1 )

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18039

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103657

Idioma(s)

中文

Fonte

刘文楷;林世鸣;曲延峰;武术;张存善.半导体微腔中电偶极子的自发发射,光电子·激光,2002,13(1):12-15

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文