分子束外延AlGaN/GaN异质结场效应晶体管材料


Autoria(s): 孙殿照; 王晓亮; 胡国新; 王军喜; 刘宏新; 刘成海; 曾一平; 李晋闽; 林兰英
Data(s)

2002

Resumo

用自组装的氮源分子束外延(NH_3-MBE)系统和射频等离子体辅助分子束外延(PA-MBE)系统在C面蓝宝石衬底上外延了优质GaN以及AlGaN/GaN二维电子气材料。GaN膜(1.2 μm厚)室温电子迁移率达300 cm~2/V·s,背景电子浓度低至2 * 10~(17) cm~(-3)。双晶X射线衍射(0002)摇摆曲线半高宽为6 arcmin。AlGaN/GaN二维电子气材料最高的室温和77 K二维电子气电子迁移率分别为730 cm~2/V·s和1200 cm~2/V·s,相应的电子面密度分别是7.6 * 10~(12) cm~(-2)和7.1 * 10~(12) cm~(-2);用所外延的AlGaN/GaN二维电子气材料制备出了性能良好的AlGaN/GaN HFET(异质结场效应晶体管),室温跨导为50 mS/mm(栅长1 μm),截止频率达13 GHz(栅长0.5 μm)。该器件在300 ℃出现明显的并联电导,这可能是材料中的深中心在高温被激活所致。

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18007

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103641

Idioma(s)

中文

Fonte

孙殿照;王晓亮;胡国新;王军喜;刘宏新;刘成海;曾一平;李晋闽;林兰英.分子束外延AlGaN/GaN异质结场效应晶体管材料,固体电子学研究与进展,2002,22(2):202-204

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文