半导体纳米结构的可控生长


Autoria(s): 王占国
Data(s)

2002

Resumo

应用MBE技术和SK生长模式,通过对研究材料体系的应力分布设计,生长动力学研究和生长工艺优化,实现了In(Ga)As/GaAs,InAlAs/AlGaAs/GaAs和InAs/InAl(Ga)As/InP无缺陷量子点(线)的尺寸、形状、密度和分布有序性的可控生长,这对进一步的器件应用特别重要。讨论了半导体纳米结构的空间有序性分布物理起因和退火的机制。

应用MBE技术和SK生长模式,通过对研究材料体系的应力分布设计,生长动力学研究和生长工艺优化,实现了In(Ga)As/GaAs,InAlAs/AlGaAs/GaAs和InAs/InAl(Ga)As/InP无缺陷量子点(线)的尺寸、形状、密度和分布有序性的可控生长,这对进一步的器件应用特别重要。讨论了半导体纳米结构的空间有序性分布物理起因和退火的机制。

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国家基础研究规划项目(G2 683 )

中国科学院半导体研究所

国家基础研究规划项目(G2 683 )

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/17975

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103625

Idioma(s)

中文

Fonte

王占国.半导体纳米结构的可控生长,人工晶体学报,2002,31(3):208-217

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文