GaN横向外延中晶面倾斜的形成机制


Autoria(s): 冯淦; 郑新和; 朱建军; 沈晓明; 张宝顺; 赵德刚; 孙元平; 张泽洪; 王玉田; 杨辉; 梁骏吾
Data(s)

2002

Resumo

采用双晶X射线衍射(DC-XRD)研究蓝宝石(0001)衬底上横向外延GaN层中晶面倾斜的形成原因。发现横向生长区的GaN在垂直掩模方向上朝SiNx掩模层弯曲。采用选择性腐蚀逐渐去掉SiNx掩模层,发现XRD中G N(002)ω扫描衍射峰两侧存在与晶面倾斜有关的衍射信息。该衍射信息起初为一个很宽的峰,随着选择性腐蚀的进行,会先分裂为两个峰,最后当SiNx掩模层全部腐蚀掉后,其中一个衍射峰会消失,而只剩下一个很窄的峰。作者证实造成横向外延GaN中晶面倾斜的原因有两个

采用双晶X射线衍射(DC-XRD)研究蓝宝石(0001)衬底上横向外延GaN层中晶面倾斜的形成原因。发现横向生长区的GaN在垂直掩模方向上朝SiNx掩模层弯曲。采用选择性腐蚀逐渐去掉SiNx掩模层,发现XRD中G N(002)ω扫描衍射峰两侧存在与晶面倾斜有关的衍射信息。该衍射信息起初为一个很宽的峰,随着选择性腐蚀的进行,会先分裂为两个峰,最后当SiNx掩模层全部腐蚀掉后,其中一个衍射峰会消失,而只剩下一个很窄的峰。作者证实造成横向外延GaN中晶面倾斜的原因有两个

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国家自然科学基金(批准号:698251 7),国家杰现青年基金,NSFC-RGC联合基金(批准号:5 1161953,N-HKU 28/ )资助项目

中国科学院半导体研究所

国家自然科学基金(批准号:698251 7),国家杰现青年基金,NSFC-RGC联合基金(批准号:5 1161953,N-HKU 28/ )资助项目

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/17909

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103592

Idioma(s)

中文

Fonte

冯淦;郑新和;朱建军;沈晓明;张宝顺;赵德刚;孙元平;张泽洪;王玉田;杨辉;梁骏吾.GaN横向外延中晶面倾斜的形成机制,中国科学. A辑,数学,2002,32(8):737-742

Palavras-Chave #光电子学
Tipo

期刊论文