6H—SiC Schottky二极管的正向特性


Autoria(s): 尚也淳; 刘忠立; 王姝睿
Data(s)

2003

Resumo

提出了一种考虑Schottky结势垒不均匀性和界面层作用的SiC Schottky二极管(SBD)正向特性模型,势垒的不均匀性来自于SiC外延层上的各种缺陷,而界面层上的压降会使正向Schottky结的有效势垒增高.该模型能够对不同温度下SiC Schottky结正向特性很好地进行模拟,模拟结果和测量数据相符.它更适用于考虑器件温度变化的场合,从机理上说明了理想因子、有效势垒和温度的关系.

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/17879

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103577

Idioma(s)

中文

Fonte

尚也淳;刘忠立;王姝睿.6H—SiC Schottky二极管的正向特性,半导体学报,2003,24(5):504-509

Palavras-Chave #半导体器件
Tipo

期刊论文