自组织生长单层InAs量子点结构中浸润层与量子点发光的时间分辨谱研究


Autoria(s): 陈主荣; 吴正云; 牛智川; 孔令民; 蔡加法
Data(s)

2003

Resumo

在GaAs(100)的衬底上,采用MBE自组织方法生长了单层层厚分别为2和2.5ML的InAs层。通过原子力显微镜(AFM)观察,证实已在InAs层中形成量子点。采用光致发光谱及时间分辨谱对InAs量子点及浸润层开展研究和对比,分析了单层InAs量子点和浸润层中的载流子迁移过程,较好地解释了实验结果。

在GaAs(100)的衬底上,采用MBE自组织方法生长了单层层厚分别为2和2.5ML的InAs层。通过原子力显微镜(AFM)观察,证实已在InAs层中形成量子点。采用光致发光谱及时间分辨谱对InAs量子点及浸润层开展研究和对比,分析了单层InAs量子点和浸润层中的载流子迁移过程,较好地解释了实验结果。

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厦门大学物理系;中国半导体所

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/17649

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103462

Idioma(s)

中文

Fonte

陈主荣;吴正云;牛智川;孔令民;蔡加法.自组织生长单层InAs量子点结构中浸润层与量子点发光的时间分辨谱研究,量子电子学报,2003,20(2):208-212

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文