自组装Ge/Si量子点的研究进展


Autoria(s): 黄昌俊; 余金中; 王启明
Data(s)

2004

Resumo

回顾与总结了该实验室对自组装Ge/Si(001)量子点的近期研究进展.着重介绍了生长在Si(001)衬底上的Ge量子点的形貌演变过程;多层Ge量子点的结构分析;Ge量子点结构的光学电学性质的表征;以及提高Ge量子点尺寸和分布均匀性的各种方法.

回顾与总结了该实验室对自组装Ge/Si(001)量子点的近期研究进展.着重介绍了生长在Si(001)衬底上的Ge量子点的形貌演变过程;多层Ge量子点的结构分析;Ge量子点结构的光学电学性质的表征;以及提高Ge量子点尺寸和分布均匀性的各种方法.

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国家自然科学基金重大项目,国家重点基础研究发展规划项目

中国科学院半导体研究所

国家自然科学基金重大项目,国家重点基础研究发展规划项目

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/17541

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103408

Idioma(s)

中文

Fonte

黄昌俊;余金中;王启明.自组装Ge/Si量子点的研究进展,自然科学进展,2004,14(1):28-33

Palavras-Chave #光电子学
Tipo

期刊论文