快速热退火对GaInNAs/GaAs单量子阱反常温度特性研究


Autoria(s): 边历锋; 江德生; 陆书龙
Data(s)

2004

Resumo

分析了MBE生长的GaInNAs/GaAs单量子阱样品的光致荧光谱(PL),细致地研究了在弱激发功率下GaInNAs/GaAs样品的发光峰位的 s-型反常温度依赖关系。并对材料进行了退火处理,结果发现退火有效地改善材料的发光特性,并且会造成s-型的转变温度降低,从而说明退火可以有效地减少局域态。

分析了MBE生长的GaInNAs/GaAs单量子阱样品的光致荧光谱(PL),细致地研究了在弱激发功率下GaInNAs/GaAs样品的发光峰位的 s-型反常温度依赖关系。并对材料进行了退火处理,结果发现退火有效地改善材料的发光特性,并且会造成s-型的转变温度降低,从而说明退火可以有效地减少局域态。

于2010-11-23批量导入

zhangdi于2010-11-23 13:06:28导入数据到SEMI-IR的IR

Made available in DSpace on 2010-11-23T05:06:28Z (GMT). No. of bitstreams: 1 4747.pdf: 157551 bytes, checksum: 5b1ca09eade8ae37c58ac7ec0caac492 (MD5) Previous issue date: 2004

国家自然科学基金资助项目(6 276 3),国家自然科学基金资助项目(6 276 3)

中国科学院半导体研究所

国家自然科学基金资助项目(6 276 3),国家自然科学基金资助项目(6 276 3)

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/17461

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103368

Idioma(s)

中文

Fonte

边历锋;江德生;陆书龙.快速热退火对GaInNAs/GaAs单量子阱反常温度特性研究,稀有金属,2004,28(3):582-584

Palavras-Chave #半导体物理
Tipo

期刊论文