离子束外延制备GaAs:Gd薄膜


Autoria(s): 宋书林; 陈诺夫; 周剑平; 尹志岗; 李艳丽; 杨少延; 刘志凯
Data(s)

2004

Resumo

室温务件下,用低能离子束外延制备了GaAs

国家自然科学基金资助项目(6 176 1),国家自然科学基金资助项目(6 176 1),国家重大基础研究计划资助项目(G2 365和G2 2CB3119 5)

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/17447

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103361

Idioma(s)

中文

Fonte

宋书林;陈诺夫;周剑平;尹志岗;李艳丽;杨少延;刘志凯.离子束外延制备GaAs:Gd薄膜,功能材料,2004,35(3):336-337

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文