小尺寸Si/Ge量子点内应变和组分的拉曼光谱表征
| Data(s) |
2004
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| Resumo |
本文详细地研究了原始生长和退火处理后的Si/Ge量子点的拉曼光谱.我们观测到了Si/Ge量子点的一系列本征的拉曼振动模以及Ge-Ge模的LO和TO声子峰间4.2cm-1的频率劈裂.通过这些参数, 我们自洽地确定了原始生长的平面直径为20nm和高为2nm的Si/Ge量子点内Ge的平均组分为80%,平均应变为-3.4%.分析清楚地表明了这种小尺寸的Si/Ge量子点内的应变仍遵从双轴应变,并且应变的释放主要由量子点和Si隔离层间Si-Ge原子互扩散决定. |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
谭平恒;周霞;杨富华;Brunner K;Bougeard D;Abstreiter G.小尺寸Si/Ge量子点内应变和组分的拉曼光谱表征,光散射学报,2004,16(3):203-207 |
| Palavras-Chave | #半导体材料 |
| Tipo |
期刊论文 |
