SiON对Si基SiO_2 AWG偏振补偿的数值分析


Autoria(s): 安俊明; 郜定山; 李健; 李建光; 王红杰; 胡雄伟
Data(s)

2004

Resumo

采用全矢量交替方向隐含迭代方法系统分析了高折射率SiON薄膜对Si基SiO2阵列波导光栅中波导应力双折射的影响.分析结果表明在芯区上或下表面沉积SiON薄膜可以明显减小Si基SiO2阵列波导光栅(AWG)中波导的应力双折射,但这两种补偿方法容易使模场偏移中心位置,不利于波导与光纤的耦合.理想的补偿方法是在芯区上下同时补偿,可减小模场偏移,并用该方法设计了偏振无关的16通道AWG.

采用全矢量交替方向隐含迭代方法系统分析了高折射率SiON薄膜对Si基SiO2阵列波导光栅中波导应力双折射的影响.分析结果表明在芯区上或下表面沉积SiON薄膜可以明显减小Si基SiO2阵列波导光栅(AWG)中波导的应力双折射,但这两种补偿方法容易使模场偏移中心位置,不利于波导与光纤的耦合.理想的补偿方法是在芯区上下同时补偿,可减小模场偏移,并用该方法设计了偏振无关的16通道AWG.

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国家重点基础研究发展规划,国家自然科学基金

中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心

国家重点基础研究发展规划,国家自然科学基金

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/17381

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103328

Idioma(s)

中文

Fonte

安俊明;郜定山;李健;李建光;王红杰;胡雄伟.SiON对Si基SiO_2 AWG偏振补偿的数值分析,半导体学报,2004,25(7):858-862

Palavras-Chave #光电子学
Tipo

期刊论文