低能离子束方法制备磁性Fe-Si合金薄膜


Autoria(s): 刘力锋; 陈诺夫; 张富强; 陈晨龙; 李艳丽; 杨少延; 刘志凯
Data(s)

2004

Resumo

利用质量分离的低能离子束技术,获得了磁性Fe-Si合金薄膜.利用俄歇电子能谱法(AES)、X射线衍射法(XRD)以及交变梯度样品磁强计(AGM)测试了样品的组分、结构以及磁特性.测试结果表明在室温下制备的Fe-Si合金是Fe组分渐变的非晶薄膜,具有室温铁磁性.当衬底温度为300℃时制备的非晶Fe-Si薄膜中有Fe硅化物FeSi相产生,样品的铁磁性被抑制.

利用质量分离的低能离子束技术,获得了磁性Fe-Si合金薄膜.利用俄歇电子能谱法(AES)、X射线衍射法(XRD)以及交变梯度样品磁强计(AGM)测试了样品的组分、结构以及磁特性.测试结果表明在室温下制备的Fe-Si合金是Fe组分渐变的非晶薄膜,具有室温铁磁性.当衬底温度为300℃时制备的非晶Fe-Si薄膜中有Fe硅化物FeSi相产生,样品的铁磁性被抑制.

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国家自然科学基金资助项目,国家重大基础研究计划资助项目

中国科学院半导体研究所

国家自然科学基金资助项目,国家重大基础研究计划资助项目

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/17335

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103305

Idioma(s)

中文

Fonte

刘力锋;陈诺夫;张富强;陈晨龙;李艳丽;杨少延;刘志凯.低能离子束方法制备磁性Fe-Si合金薄膜,功能材料,2004,35(4):429-431

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文