低能离子束方法制备磁性Fe-Si合金薄膜
Data(s) |
2004
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Resumo |
利用质量分离的低能离子束技术,获得了磁性Fe-Si合金薄膜.利用俄歇电子能谱法(AES)、X射线衍射法(XRD)以及交变梯度样品磁强计(AGM)测试了样品的组分、结构以及磁特性.测试结果表明在室温下制备的Fe-Si合金是Fe组分渐变的非晶薄膜,具有室温铁磁性.当衬底温度为300℃时制备的非晶Fe-Si薄膜中有Fe硅化物FeSi相产生,样品的铁磁性被抑制. 利用质量分离的低能离子束技术,获得了磁性Fe-Si合金薄膜.利用俄歇电子能谱法(AES)、X射线衍射法(XRD)以及交变梯度样品磁强计(AGM)测试了样品的组分、结构以及磁特性.测试结果表明在室温下制备的Fe-Si合金是Fe组分渐变的非晶薄膜,具有室温铁磁性.当衬底温度为300℃时制备的非晶Fe-Si薄膜中有Fe硅化物FeSi相产生,样品的铁磁性被抑制. 于2010-11-23批量导入 zhangdi于2010-11-23 13:05:57导入数据到SEMI-IR的IR Made available in DSpace on 2010-11-23T05:05:57Z (GMT). No. of bitstreams: 1 4684.pdf: 218572 bytes, checksum: 5df3e10312038e285b7e5beb12800e37 (MD5) Previous issue date: 2004 国家自然科学基金资助项目,国家重大基础研究计划资助项目 中国科学院半导体研究所 国家自然科学基金资助项目,国家重大基础研究计划资助项目 |
Identificador | |
Idioma(s) |
中文 |
Fonte |
刘力锋;陈诺夫;张富强;陈晨龙;李艳丽;杨少延;刘志凯.低能离子束方法制备磁性Fe-Si合金薄膜,功能材料,2004,35(4):429-431 |
Palavras-Chave | #半导体材料 |
Tipo |
期刊论文 |