非晶硅碳(a-SiC:H)薄膜光学常数的透射谱表征


Autoria(s): 胡志华; 廖显伯
Data(s)

2005

Resumo

报道了一种用透射谱数据分析法计算非晶硅碳薄膜的厚度、折射率、吸收系数和光学带隙等光学常数的方法和程序.这一方法引用有效谐振子模型理论的折射率色散关系,所有公式均为解析表达式,便于进行数据处理,无须专用软件,使用Excel即可完成,适用于多种半导体薄膜材料.将这种方法应用于PECVD方法制备的非晶硅碳(a-SiC∶H)薄膜,对其光学特性进行了分析.

报道了一种用透射谱数据分析法计算非晶硅碳薄膜的厚度、折射率、吸收系数和光学带隙等光学常数的方法和程序.这一方法引用有效谐振子模型理论的折射率色散关系,所有公式均为解析表达式,便于进行数据处理,无须专用软件,使用Excel即可完成,适用于多种半导体薄膜材料.将这种方法应用于PECVD方法制备的非晶硅碳(a-SiC∶H)薄膜,对其光学特性进行了分析.

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国家重点基础研究发展计划资助项目

中科院半导体所

国家重点基础研究发展计划资助项目

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/17205

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103240

Idioma(s)

中文

Fonte

胡志华;廖显伯.非晶硅碳(a-SiC:H)薄膜光学常数的透射谱表征,半导体学报,2005,26(1):34-37

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文