p型纳米硅与a-Si∶H不锈钢底衬nip太阳电池


Autoria(s): 胡志华; 廖显伯; 刁宏伟; 夏朝凤; 曾湘波; 郝会颖; 孔光临
Data(s)

2005

Resumo

报道了选用厚度为0.05mm的不锈钢箔作衬底,B掺杂P型氢化纳米硅作窗口层,制备成功开路电压和填充因子分别达到0.90V和0.70的nip非晶硅基薄膜单结太阳电池.UV-VIS透射谱和微区Raman谱证实所用p层具有典型氢化纳米硅的宽能隙和含有硅结晶颗粒的微结构特征.明确指出导致这种氢化纳米硅能隙展宽的物理机制是量子尺寸效应.

国家重大基础研究计划(973)项目

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16945

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103110

Idioma(s)

中文

Fonte

胡志华;廖显伯;刁宏伟;夏朝凤;曾湘波;郝会颖;孔光临.p型纳米硅与a-Si∶H不锈钢底衬nip太阳电池,物理学报,2005,54(6):2945-2949

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文