GaAs/Si/AlAs异质结的DLTS实验研究


Autoria(s): 李永平; 田强; 牛智川
Data(s)

2005

Resumo

利用深能级瞬态谱(DLTS)技术研究了Si夹层和GaAs层不同生长温度对GaAs/AlAs异质结晶体品质的影响。发现Si夹层的引入并没有引起明显深能级缺陷,而不同温度下生长的GaAs/Si/AlAs异质结随着温度的降低,深能级缺陷明显增加,并进行了分析,得到深能级是由Ga空位引起的,在600℃时生长的晶体质量最佳。

教育部高等学校骨干教师资助计划项目,曲阜师范大学校级项目

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16843

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103059

Idioma(s)

中文

Fonte

李永平;田强;牛智川.GaAs/Si/AlAs异质结的DLTS实验研究,量子电子学报,2005,22(6):923-926

Palavras-Chave #半导体物理
Tipo

期刊论文