双源电子束蒸发制备Si/SiO2光学薄膜的工艺
| Data(s) |
2006
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|---|---|
| Resumo |
用双源电子束蒸发的方法,在K9玻璃基片上蒸镀Si和SiO2的混合膜.通过改变两种膜料蒸发速率的比例,得到的各个膜层,其折射率大小在两种膜料折射率之间的范围内变化.从实验上得出了混合膜层的折射率随Si和SiO2蒸发速率比变化的规律,并讨论了这种淀积方法的优越性. |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
赵妙;周代兵;谭满清;王晓东;吴旭明.双源电子束蒸发制备Si/SiO2光学薄膜的工艺,半导体学报,2006,27(9):1586-1589 |
| Palavras-Chave | #半导体器件 |
| Tipo |
期刊论文 |
