HIT太阳电池中ITO薄膜的结构和光电性能
| Data(s) |
2007
|
|---|---|
| Resumo |
采用射频磁控溅射技术在不同射频功率下沉积了ITO薄膜,并将其应用于HIT太阳电池.分析了薄膜的结构、光电特性.结果表明,在120W时制备的薄膜很好地兼顾了电阻率和光透过率,其电阻率为3.48×10~(-4)Ω·cm、在350～800 nm波段的平均光透过率为87.1%,将其应用于HIT太阳电池上,电池的转换效率可达13.38%. 河北省自然科学基金项目 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
任丙彦;刘晓平;许颖;王敏花;廖显伯.HIT太阳电池中ITO薄膜的结构和光电性能,太阳能学报,2007,28(5):504-507 |
| Palavras-Chave | #半导体材料 |
| Tipo |
期刊论文 |
