采用单步光刻和湿法腐蚀工艺制作高性能衍射微透镜


Autoria(s): 张新宇; 陈胜斌; 季安; 谢长生
Data(s)

2007

Resumo

采用单步光刻和湿法腐蚀工艺,低成本快速制作面向高性能蓝光和红光DVD光学头物镜的衍射微透镜.所制微光学结构的表面粗糙度在纳米量级,衍射相位台阶的高度在亚微米量级并可以根据需求灵活调整,通光孔径在毫米至厘米量级的范围内可调.组成衍射微透镜的大量基本相位结构,可以根据入射和出射光束的形貌特征及参数指标,通过衍射积分算法灵活设置和排布.远场光学测试显示了所制衍射微透镜的高衍射效能.

采用单步光刻和湿法腐蚀工艺,低成本快速制作面向高性能蓝光和红光DVD光学头物镜的衍射微透镜.所制微光学结构的表面粗糙度在纳米量级,衍射相位台阶的高度在亚微米量级并可以根据需求灵活调整,通光孔径在毫米至厘米量级的范围内可调.组成衍射微透镜的大量基本相位结构,可以根据入射和出射光束的形貌特征及参数指标,通过衍射积分算法灵活设置和排布.远场光学测试显示了所制衍射微透镜的高衍射效能.

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湖北省自然科学基金,控制与仿真技术国防科技重点实验室基金,航天创新技术基金资助项目

华中科技大学;中国科学院半导体研究所;武汉光电国家实验室

湖北省自然科学基金,控制与仿真技术国防科技重点实验室基金,航天创新技术基金资助项目

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16203

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/102140

Idioma(s)

中文

Fonte

张新宇;陈胜斌;季安;谢长生.采用单步光刻和湿法腐蚀工艺制作高性能衍射微透镜,半导体学报,2007,28(10):1625-1629

Palavras-Chave #微电子学
Tipo

期刊论文