重掺B对应变SiGe材料能带结构的影响


Autoria(s): 姚飞; 薛春来; 成步文; 王启明
Data(s)

2007

Resumo

硅锗异质结双极晶体管(SiGe HBT)一般以重掺硼(B)的应变SiGe层作为基区.精确表征SiGe材料能带结构对SiGe HBT的设计具有重要的意义.在应变SiGe材料中,B的重掺杂一方面会因为重掺杂效应使带隙收缩,另一方面,B的引入还会部分补偿Ge引起的应变,从而改变应变引起的带隙变化.在重掺B的应变SiGe能带结构研究中,采用半经验方法,考虑了B的应变补偿作用对能带的影响,对Jain-Roulston模型进行修正,并分析了重掺杂引起的带隙收缩在导带和价带的分布.

国家高技术研究发展计划(批准号:2 6AA 3Z415),国家重点基础研究发展规划(批准号:2 6CB3 28 2和2 7CB6134 4),国家自然科学基金 (批准号:6 336 1 ,6 676 5) 资助的课题

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16179

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/102128

Idioma(s)

中文

Fonte

姚飞;薛春来;成步文;王启明.重掺B对应变SiGe材料能带结构的影响,物理学报,2007,56(11):6654-6659

Palavras-Chave #光电子学
Tipo

期刊论文