具有场板结构的AlGaN/GaN HEMT的直流特性


Autoria(s): 魏珂; 刘新宇; 和致经; 吴德馨
Data(s)

2008

Resumo

研制成功具有场板结构的AlGaN/GaN HEMT器件,对源场板、栅场板器件的性能进行了分析.场板的引入减小了器件漏电和肖特基漏电,提高了肖特基反向击穿电压.源漏间距4μm的HEMT的击穿电压由常规器件的65V提高到100V以上,肖特基反向漏电由37μA减小到5.7μA,减小了一个量级.肖特基击穿电压由常规结构的78V提高到100V以上.另外,还初步讨论了高频特性.

国家重点基础研究发展计划(批准号

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16115

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/102096

Idioma(s)

中文

Fonte

魏珂;刘新宇;和致经;吴德馨.具有场板结构的AlGaN/GaN HEMT的直流特性,半导体学报,2008,29(3):554-558

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文