GaAs(331)A面InAs自组织纳米结构形貌演化


Autoria(s): 牛智红; 任正伟; 贺振宏
Data(s)

2008

Resumo

采用分子束外延方法在CaAs(331)A高指数衬底上制备自对齐InAs纳米线(QWRs)或者三维(3D)岛状结构.InAs纳米线(QWRs)选择性生长在CaAs层的台阶边缘.通过原子力显微镜(AfM)仔细研究了InAs纳米微结构的表面形貌,发现不同的生长条件,包括:衬底温度、生长速率、和InAs层厚度等,对InAa表面形貌有很大的影响.如,低温更容易导致线状纳米微结构的形成,而高温更利于3D岛状结构形成.表面形貌的转变归结于表面能同应变能之间的竞争.

采用分子束外延方法在CaAs(331)A高指数衬底上制备自对齐InAs纳米线(QWRs)或者三维(3D)岛状结构.InAs纳米线(QWRs)选择性生长在CaAs层的台阶边缘.通过原子力显微镜(AfM)仔细研究了InAs纳米微结构的表面形貌,发现不同的生长条件,包括:衬底温度、生长速率、和InAs层厚度等,对InAa表面形貌有很大的影响.如,低温更容易导致线状纳米微结构的形成,而高温更利于3D岛状结构形成.表面形貌的转变归结于表面能同应变能之间的竞争.

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国家自然科学基金(No.6 176 6)资助

山西综合职业技术学院轻工分院;中科院半导体研究所

国家自然科学基金(No.6 176 6)资助

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16095

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/102086

Idioma(s)

中文

Fonte

牛智红;任正伟;贺振宏.GaAs(331)A面InAs自组织纳米结构形貌演化,真空科学与技术学报,2008,28(2):108-111

Palavras-Chave #半导体物理
Tipo

期刊论文