高锗组分PIN锗硅光电探测器设计与模拟
| Data(s) |
2008
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|---|---|
| Resumo |
介绍了Si1-xGex合金材料在制作新型光电子器件方面的重要作用,描述了应变SiGe层的特性,包括其临界厚度与Ge组分的关系、能带变窄、折射率增加,以及应变SiGe层的亚稳态特性.设计了应变锗硅缓冲层上的高Ge组分PIN光电探测器的外延材料和结构,采用Silvaco软件分别对光电探测器的器件结构、光谱响应、响应电流及其随入射光功率的变化、器件的暗电流进行了模拟,结果显示,探测器有源区面积增大,其响应电流也增大,且暗电流比其响应电流小6～8个数量级;探测器的响应时间约为3.8x10~(-9)s;探测器在850nm左右具有较好的光响应;这些结果都比较理想.采用L-edit软件设计了该光电探测器的结构,最后对研究结果做出总结. 国家自然科学重点基金项目(NSFC-6 536 3 ) |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
李欢;牛萍娟;杨广华;李俊一;张宇;常旭;张秀乐.高锗组分PIN锗硅光电探测器设计与模拟,红外与激光工程,2008,37(3):440-443 |
| Palavras-Chave | #半导体器件 |
| Tipo |
期刊论文 |
