p-GaN层厚度对GaN基p-i-n结构紫外探测器性能的影响


Autoria(s): 周梅; 赵德刚
Data(s)

2008

Resumo

研究了p-GaN层厚度对GaN基pin结构紫外探测器性能的影响.模拟计算表明:较厚的p-GaN层会减小器件的量子效率,然而同时也会减小器件的暗电流,较薄的p-GaN层会增加器件的量子效率,但是同时也增加了器件的暗电流.进一步的分析表明,金属和p-GaN之间的结电场是出现这种现象的根本原因.在实际的器件设计中,应该根据实际需要选择p型层的厚度.

研究了p-GaN层厚度对GaN基pin结构紫外探测器性能的影响.模拟计算表明:较厚的p-GaN层会减小器件的量子效率,然而同时也会减小器件的暗电流,较薄的p-GaN层会增加器件的量子效率,但是同时也增加了器件的暗电流.进一步的分析表明,金属和p-GaN之间的结电场是出现这种现象的根本原因.在实际的器件设计中,应该根据实际需要选择p型层的厚度.

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国家自然科学基金(批准号:6 776 47),中国农业大学青年教师科研启动基金(基金批准号:2 6 7)资助的课题

中国农业大学理学院应用物理系;中国科学院半导体研究所

国家自然科学基金(批准号:6 776 47),中国农业大学青年教师科研启动基金(基金批准号:2 6 7)资助的课题

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16029

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/102053

Idioma(s)

中文

Fonte

周梅;赵德刚.p-GaN层厚度对GaN基p-i-n结构紫外探测器性能的影响,物理学报,2008,57(7):4570-4574

Palavras-Chave #光电子学
Tipo

期刊论文