生长温度对InAs/GaSb超晶格晶体结构和表面形貌的影响


Autoria(s): 郭杰; 孙维国; 陈慧娟; 彭震宇; 鲁正雄; 郝瑞亭; 周志强; 许应强; 牛智川
Data(s)

2008

Resumo

采用分子束外延(MBE)技术,在GaSb(100)衬底上外延生长InAs(4ML)/GaSb(8ML)超晶格(SLs)。研究了生长温度(400~440℃)对超晶格晶体结构和表面形貌的影响。结果表明,420℃生长的超晶格结构完整和表面粗糙度最小,其荧光光谱(PL)峰值波长在约2.54μm处,响应光谱50%截止波长在约2.4μm处。通过控制快门顺序形成InSb和混合两种界面,并发现生长温度强烈影响混合界面InAs/GaSb超晶格结构和表面形貌,而对InSb界面超晶格的影响较小。

国家自然科学基金资助项目(6 6 7 16.6 6254 5)

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/15917

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/101997

Idioma(s)

中文

Fonte

郭杰;孙维国;陈慧娟;彭震宇;鲁正雄;郝瑞亭;周志强;许应强;牛智川.生长温度对InAs/GaSb超晶格晶体结构和表面形貌的影响,功能材料,2008,39(10):1605-1607

Palavras-Chave #半导体物理
Tipo

期刊论文