生长温度对InAs/GaSb超晶格晶体结构和表面形貌的影响
Data(s) |
2008
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Resumo |
采用分子束外延(MBE)技术,在GaSb(100)衬底上外延生长InAs(4ML)/GaSb(8ML)超晶格(SLs)。研究了生长温度(400~440℃)对超晶格晶体结构和表面形貌的影响。结果表明,420℃生长的超晶格结构完整和表面粗糙度最小,其荧光光谱(PL)峰值波长在约2.54μm处,响应光谱50%截止波长在约2.4μm处。通过控制快门顺序形成InSb和混合两种界面,并发现生长温度强烈影响混合界面InAs/GaSb超晶格结构和表面形貌,而对InSb界面超晶格的影响较小。 国家自然科学基金资助项目(6 6 7 16.6 6254 5) |
Identificador | |
Idioma(s) |
中文 |
Fonte |
郭杰;孙维国;陈慧娟;彭震宇;鲁正雄;郝瑞亭;周志强;许应强;牛智川.生长温度对InAs/GaSb超晶格晶体结构和表面形貌的影响,功能材料,2008,39(10):1605-1607 |
Palavras-Chave | #半导体物理 |
Tipo |
期刊论文 |