结构参数对GaN肖特基紫外探测器性能的影响及器件设计


Autoria(s): 周梅; 赵德刚
Data(s)

2009

Resumo

研究了GaN肖特基结构(n~--GaN /n~+-GaN)紫外探测器的结构参数对器件性能的影响机理.模拟计算结果表明:提高肖特基势垒高度和减小表面复合速率,不仅可以增加器件的量子效率,而且可以极大地减小器件的暗电流;适当地增加n~--GaN层厚度和载流子浓度可以提高器件的量子效率,但减小n~--GaN层的载流子浓度却有利于减小器件的暗电流.我们针对实际应用的需要,提出了一个优化器件结构参数的设计方案,特别是如果实际应用中对器件的量子效率和暗电流都有较高的要求,肖特基势垒高度应该≥0.8 eV,n~--GaN层的厚度≥200 nm,载流子浓度1×10~(1)7 cm~(-3) 左右,表面复合速率<1×10~7 cm/s.

国家自然科学基金

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/15625

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/101851

Idioma(s)

中文

Fonte

周梅;赵德刚.结构参数对GaN肖特基紫外探测器性能的影响及器件设计,发光学报,2009,30(6):824-831

Palavras-Chave #光电子学
Tipo

期刊论文