光敏聚酰亚胺的合成与性能表征

本论文综述了光敏聚酰亚胺（PSPI）二十几年来的研究、发展和应用。描述了用液—液和液—固界面合成方法替代一釜三步的溶液缩合方法合成分子量较高的聚酰亚胺（PI）的酯型光敏性前体。由这两种方法合成的多种不同主链结构的PI酯型前体中，以联苯四酸二酐和间苯二胺残基为主链结构的光敏性前体具有较好的紫外透过性，在这种前体的溶液中添加适量的米氏酮和三溴甲基苯基砜等敏化剂，形成光刻胶液，由此形成的感光性膜的感光速度能达到5－10mJ/cm~2的一流水平；其在普通曝光设备下的光刻分辩能力为1－2μ,用x-ray曝光时，能达到0.2μm.本论文工作也描述了水系显影的PSPI光刻胶和新的离子型PSPI光刻胱的合成和光刻工艺。这两种光刻胶的光刻反差值（r）都在2以上，有较好的光刻辨率，但感光速度都不如酯型PSPI。本文最后探讨了酯型PSPI杂化的可行性，在酯型PSPI胶液中添加金属钛有机复合物，由这种含钛的PSPI胶液形成的感光膜，其感光速度不如相应的酯型PSPI感光膜，且显影比较困难。转化膜中的TiO_2含量达10％以上，粒径绝大多数在80nm以下。