乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合的研究

采用Ar、He、H_2、N_2、NH_3作为等离子气体，在外部电极电容耦合的管状反应器内对乙烯基三甲基硅烷（VTMS）进行等离子体聚合。总结了有和无等离子气体存在时VTMS的聚合规律，实验结果表明Ar、He、H_2、N_2等离子气体的存在对引发单体有利，使得淀积速率增大，它们的存在与否不影响聚合物的淀积分布规律。NH_3为强腐蚀性气体，它作为等离子气体参与反应，使聚合物淀积速率降低，强烈改变了聚合物的淀积分布规律。实验结果还表明聚合物淀积速率受到放电功率和单体压力的影响，为了从理论上研究反应参数对淀积速率的影响，运用旋转中心混合方法（RCC）优选实验数据，求出了VTMS聚合反应的动力学方程。从所得方程求出在功率为90瓦，压力为5.9帕时，VTMS淀积速率最大，另外从方程得出功率和压力两因素对淀积速率的影响程度差别不大，它们皆为主要反应参数。