含氟聚合物的辐射交联机理研究

利用近十几年来才应用于聚合物体系的X-射线光电子能谱技术（XPS）。研究含氟聚合物的辐射交联过程。确认了一些含氟聚合物的交联键结构，并建议了可能的辐射交联和裂解机理。在研究F_(46)的辐射交联行为的过程中。发现导致F_(46)辐射化学行为在其玻璃化转变温度前后发生质的变化的原因是F_(46)中叔碳自由基-CF_2-C-CF_3-CF_2-参与了其辐射化学反应，并从高度交联F_(46)的C_(15)电子的XPS谱图上，观察到了与上述自由基有关的交联键结构。提高辐照温度有利于F_(46)的辐射交联反应。我们还可显著影响其辐射化学行为。建议可以利用DSC法来进行无溶剂F_4支化程度的表征。还发现F_4的真空下的辐射裂解主要是形成未端不饱和结构和-CF_3端基。还研究了F_2及其异构体F_(40)的辐射化学行为及其温度效应。结果表明二者的辐射交联及脱HF方式显著不同。F_(40)的脱HF主要是在支化结构形成不饱和结构过程中实现的。