激光预处理对SiO2单层膜中缺陷的影响

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Autoria(s): 李　笑; 刘晓凤; 　赵元安; 邵建达

Data(s)	2010
Identificador	http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/7217 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/87057
Idioma(s)	中文
Fonte	李　笑 ,刘晓凤,　赵元安,邵建达.激光预处理对SiO2单层膜中缺陷的影响.中国激光,2010,6:
Palavras-Chave	#光学材料
Tipo	期刊论文