激光预处理ZrO2-SiO2 1064 nm 高反射膜的机理

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Autoria(s): 李 笑 刘晓凤; 单永光; 赵元安; 邵建达; 范正修

Data(s)	2010
Identificador	http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/7216 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/87056
Idioma(s)	中文
Fonte	李 笑 刘晓凤,单永光,赵元安,邵建达,范正修.激光预处理ZrO2-SiO2 1064 nm 高反射膜的机理.光学学报,2010,8:
Palavras-Chave	#光学材料
Tipo	期刊论文