总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响

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Autoria(s): 王贺权; 巴德纯; 沈辉; 汪保卫; 闻立时

Data(s)	2005
Identificador	http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/494 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/69673
Idioma(s)	中文
Fonte	王贺权,巴德纯,沈辉,汪保卫,闻立时.总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响.真空科学与技术学报,2005,25(1):65-68
Tipo	期刊论文