氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响

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Autoria(s): 王贺权; 沈辉; 巴德纯; 汪保卫; 闻立时

Data(s)	2005
Identificador	http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/417 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/69596
Idioma(s)	中文
Fonte	王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时.氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响.中山大学学报：自然科学版,2005,44(6):36-40
Tipo	期刊论文