在锑化镓衬底上生长InAsxSb1-x薄膜的方法


Autoria(s): 高福宝; 陈诺夫; 吴金良; 刘 磊 
Contribuinte(s)

汤宝平

中科院半导体研究所

Data(s)

24/06/2009

Resumo

于AD批量导入至AEzhangdi

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Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/9120

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/61725

Idioma(s)

中文

Fonte

高福宝;陈诺夫;吴金良;刘 磊 ,在锑化镓衬底上生长InAsxSb1-x薄膜的方法,CN200710179886,39435

Tipo

专利