InP衬底上集成增强型和耗尽型HEMT的制作方法
Contribuinte(s) |
汤宝平 中科院半导体研究所 |
---|---|
Data(s) |
26/08/2009
|
Resumo |
于AD批量导入至AEzhangdi 于AD批量导入至AEzhangdi |
Identificador | |
Idioma(s) |
中文 |
Fonte |
戴扬,InP衬底上集成增强型和耗尽型HEMT的制作方法,CN200810057889,39498 |
Tipo |
专利 |