InP基平面型背入射雪崩光电二极管及其制造方法


Autoria(s): 吴孟
Contribuinte(s)

汤宝平

中科院半导体研究所

Data(s)

07/10/2009

Resumo

于AD批量导入至AEzhangdi

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Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/9048

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/61689

Idioma(s)

中文

Fonte

吴孟,InP基平面型背入射雪崩光电二极管及其制造方法,CN200810103224,39540

Tipo

专利