Si(111)衬底上GaN 外延的MOCVD 生长及其应力研究


Autoria(s): 刘卫
Contribuinte(s)

杨辉

朱建军

Data(s)

2008

Resumo

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Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/5875

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/60499

Idioma(s)

中文

Fonte

刘卫.Si(111)衬底上GaN 外延的MOCVD 生长及其应力研究.[博士].北京.中国科学院半导体研究所.2008

Palavras-Chave #微电子学与固体电子学
Tipo

学位论文