基于湿法刻蚀工艺设计和制作SOI 热光开关和矩阵光开关
| Contribuinte(s) |
余金中 |
|---|---|
| Data(s) |
2005
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| Resumo |
Submitted by zhangdi (zhangdi@red.semi.ac.cn) on 2009-04-13T11:45:31Z Made available in DSpace on 2009-04-13T11:45:31Z (GMT). Made available in DSpace on 2009-07-09T01:36:15Z (GMT). No. of bitstreams: 1 disk/eh2005/ljw.pdf: 3765873 bytes, checksum: 4d1dbc08aef3aa667067051a79c3c69a (MD5) Previous issue date: 2005 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
刘敬伟.基于湿法刻蚀工艺设计和制作SOI 热光开关和矩阵光开关.[博士].北京.中国科学院半导体研究所.2005 |
| Palavras-Chave | #微电子学与固体电子学 |
| Tipo |
学位论文 |
