III-V族和碳杂质对硅中热施主的影响


Autoria(s): 高晓平
Contribuinte(s)

许振嘉

周结

Data(s)

1984

Resumo

Submitted by zhangdi (zhangdi@red.semi.ac.cn) on 2009-04-13T11:45:31Z

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Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/4763

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/59939

Idioma(s)

中文

Fonte

高晓平.III-V族和碳杂质对硅中热施主的影响.[硕士].北京.中国科学院半导体研究所.

Palavras-Chave #半导体材料物理
Tipo

学位论文