InP-氧化铝界面特性研究


Autoria(s): 张智宏
Contribuinte(s)

陈克铭

Data(s)

1987

Resumo

Submitted by zhangdi (zhangdi@red.semi.ac.cn) on 2009-04-13T11:45:31Z

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Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/4721

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/59918

Idioma(s)

中文

Fonte

张智宏.InP-氧化铝界面特性研究.[硕士].北京.中国科学院半导体研究所.

Palavras-Chave #半导体界面物理与器件物理
Tipo

学位论文