硅化物表面与硅化物/硅界面研究——FeSi表面氧吸附与(Cr,pt)硅化物/硅界面研究


Autoria(s): 丁孙安
Contribuinte(s)

许振嘉

Data(s)

1992

Resumo

Submitted by zhangdi (zhangdi@red.semi.ac.cn) on 2009-04-13T11:45:31Z

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Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/4583

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/59847

Idioma(s)

中文

Fonte

丁孙安.硅化物表面与硅化物/硅界面研究——FeSi表面氧吸附与(Cr,pt)硅化物/硅界面研究.[博士].北京.中国科学院半导体研究所.

Palavras-Chave #半导体器件与半导体器件物理
Tipo

学位论文