电子束蒸发制备Hfo２／Si２ 高反膜的１０６４nm 激光预处理效应

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Autoria(s): 刘晓凤; 李大伟; 李笑; 赵元安; 邵建达

Data(s)	2009
Identificador	http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/6804 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/13011
Idioma(s)	中文
Fonte	刘晓凤,李大伟,李笑,赵元安,邵建达.电子束蒸发制备Hfo２／Si２ 高反膜的１０６４nm 激光预处理效应.中国激光,2009,6:
Palavras-Chave	#激光技术
Tipo	期刊论文