离子束辅助沉积制备高功率激光薄膜的研究


Autoria(s): 张大伟; 贺洪波; 邵建达; 范正修
Data(s)

2008

Resumo

综述了离子束辅助沉积技术在高功率激光薄膜制备中的应用研究进展。指出该技术在制备高激光损伤阈值的薄膜中存在的问题,即出现过高的堆积密度,会给薄膜带来杂质缺陷、化学计量比缺陷、损伤缺陷、晶界缺陷,制备薄膜的残余应力存在着压应力增加的趋势,会改变薄膜的晶体结构等。并指出了该研究领域的研究方向。

Identificador

http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4658

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/12906

Idioma(s)

中文

Fonte

张大伟;贺洪波;邵建达;范正修;.离子束辅助沉积制备高功率激光薄膜的研究,激光技术,2008,32(1):57-60

Palavras-Chave #光学薄膜
Tipo

期刊论文