短脉冲激光辐照下熔融石英薄膜的损伤机理
Data(s) |
2008
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Resumo |
激光诱导薄膜损伤过程中,雪崩离化(AI)和多光子离化(MPI)的性质和作用到目前仍然存在争议。基于STUART等人的电子密度演化方程,运用数值模拟方法,研究了脉宽为τ∈[0.01,5]ps范围内单脉冲激光作用下熔融石英薄膜中电子密度演化过程;讨论了初始电子密度、激光脉冲宽度对阈值功率密度和阈值能量的影响;分析了初始电子密度、激光脉冲宽度对多光子离化及雪崩离化的影响。研究结果表明,在所研究的脉宽范围内,对于熔融石英光学薄膜、飞秒激光诱导损伤以雪崩离化为主导,多光子离化的影响随着脉宽的降低而增强,雪崩离化所需种子电子主要来源于多光子离化。 |
Identificador | |
Idioma(s) |
中文 |
Fonte |
黄才华;薛亦渝;夏志林;赵元安;杨芳芳;郭培涛.短脉冲激光辐照下熔融石英薄膜的损伤机理,武汉理工大学学报:信息与管理工程版,2008,30(6):905-908 |
Palavras-Chave | #光学薄膜 #激光诱导损伤 #多光子离化 #雪崩离化 #初始电子密度 #损伤阈值能量 |
Tipo |
期刊论文 |