氧离子束辅助沉积氧化铪薄膜的激光损伤阈值研究


Autoria(s): 张大伟; 吕玮阁; 邵建达; 范正修
Data(s)

2007

Resumo

电子枪蒸发制备了氧化铪薄膜,对氧离子束辅助和未辅助两种情况下的样品进行了折射率、吸收、激光损伤阈值等属性的测试,结果表明,氧离子束辅助沉积的样品与未辅助沉积的样品相比具有高的折射率和高的吸收,以及稍低的激光损伤阈值.经过分析发现,薄膜的激光损伤阈值是影响薄膜抗激光特性的不利因素和有利因素竞争的结果,离子束辅助沉积技术在引入结构致密等有利因素的同时,也引入了吸收增加等不利因素.

Identificador

http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4584

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/12869

Idioma(s)

中文

Fonte

张大伟;吕玮阁;邵建达;范正修.氧离子束辅助沉积氧化铪薄膜的激光损伤阈值研究,激光杂志,2007,28(3):31-32

Palavras-Chave #光学薄膜 #离子束辅助沉积 #氧化铪 #激光损伤阈值 #微弱吸收
Tipo

期刊论文