ZrO2/SiO2棱镜偏振膜的膜系优化设计与制备


Autoria(s): 沈自才; 孔伟金; 宋永香; 汤兆胜; 范正修
Data(s)

2005

Resumo

对以K9玻璃为基底,采用ZrO2和SiO2为高低膜料来制备棱镜偏振膜,并进行膜系优化设计。设计指标为:波长540nm处满足Tp>99%,Ts<1%。优化结果表明,膜系以H3L(HL)^13 H3LH为最佳膜系。测试结果表明,此膜系完全满足设计指标,偏振性能优良。探讨了参考波长对偏振膜工作带宽的影响。

Identificador

http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4416

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/12785

Idioma(s)

中文

Fonte

沈自才;孔伟金;宋永香;汤兆胜;范正修.ZrO2/SiO2棱镜偏振膜的膜系优化设计与制备,激光技术,2005,29(1):101-103

Palavras-Chave #光学薄膜 #棱镜 #偏振膜 #优化 #带宽
Tipo

期刊论文