离子束清洗在激光薄膜中的应用

介绍了在激光薄膜中End—Hall型离子源离子柬清洗的应用。通过实验验证了基片的二次污染和离子柬的清洗效果，观测了离子柬清洗前后基片的表面形貌变化。研究了用离子柬清洗基片时对薄膜抗激光损伤阈值的作用。分析了用离子束清洗基片时其基片表面的性质，如清洁度、表面能、接触角、表面形貌的变化机理。指出了杂质微粒的去除和附着力的增加是如何使薄膜抗激光损伤阈值显著提高的。