不同氧分压下电子束蒸发氧化锆薄膜的特性

在不同的氧分压下用电子柬热蒸发的方法制备了氧化锆薄膜。用扫描探针显微镜、X射线衍射仪和分光光度计分别对薄膜的表面粗糙度、微结构和透射谱等特性进行了表征。实验发现，薄膜沉积中氧分压与薄膜性质及微结构有密切的关系。当氧分压由3．0×10^-3Pa升高到11×10^-3Pa，薄膜的表面粗糙度由3．012nm降低到1．562nm，而薄膜的折射率由2．06降低到2．01。此外，X射线的衍射还发现，薄膜是以四方相为主多相共存的，随着氧分压的增加，特征衍射峰强度逐渐减弱，最后完全变成非晶。